Máy quang phổ ICP-MS

• ICP-MS cung cấp các giải pháp phân tích nguyên tố trong các lĩnh vực môi trường, thực phẩm, dược phẩm, vật liệu và nhiều lĩnh vực khác.

Bộ phân tích tứ cực (Quadrupole Analyzer)

• Bộ phân tích tứ cực hiệu suất cao (dải khối phân tích: 1–265 amu) hoàn toàn đáp ứng yêu cầu phân tích nguyên tố độ phân giải cao (< 0,8 amu).
• Nhờ ứng dụng công nghệ nguồn RF tứ cực tiên tiến hàng đầu thế giới kết hợp với công nghệ DDS (Direct Digital Frequency Synthesis – tổng hợp tần số số trực tiếp), hệ thống có khả năng tự động khớp tần số, mang lại độ ổn định vận hành và khả năng bảo trì vượt trội.

Hệ thống chân không (Vacuum System)

• Hệ thống bao gồm bơm turbo phân tử hiệu suất cao kết hợp với bơm cơ học bên ngoài, cho phép nhanh chóng đạt được độ chân không cao của thiết bị và đảm bảo độ nhạy tín hiệu.
• Hệ thống điều khiển chân không hoàn toàn tự động giúp duy trì độ ổn định lâu dài trong quá trình vận hành thiết bị.

Nguồn RF plasma cảm ứng 27,12 MHz (27.12 MHz Inductively Coupled Plasma RF Generator)

• Sử dụng nguồn RF bán dẫn trạng thái rắn với độ ổn định công suất cực cao và thiết kế che chắn tối ưu, PlasmaMS 300 đảm bảo độ ổn định của nguồn ion và tín hiệu phân tích.
• Bên cạnh đó, bàn chỉnh vị trí ba chiều được điều khiển chính xác cho phép tự động định vị và hiệu chuẩn đèn khò (torch).

Chuyển đổi linh hoạt các phương pháp đưa mẫu

• Thiết bị được trang bị cổng kết nối với các hệ thống lấy mẫu bên ngoài như laser ablation (LA) và sắc ký lỏng (LC); đồng thời dự phòng không gian lắp đặt bộ làm mát bán dẫn.
• Ngoài ra, hệ thống đưa mẫu chịu axit HF (phụ kiện tùy chọn) có thể được chuyển đổi linh hoạt theo nhu cầu phân tích.

Hệ thống buồng va chạm (Collision Cell System)

• Buồng va chạm được điều khiển bởi bộ điều khiển lưu lượng khối hiệu suất cao kết hợp với phần mềm điều khiển khí, cho phép nhanh chóng thực hiện chế độ va chạm helium, loại bỏ hiệu quả các nhiễu phổ.

Độ tin cậy và ổn định vượt trội (Excellent Reliability and Stability)

• Với nguồn RF bền bỉ, hệ thống chân không tích hợp bảo vệ khẩn cấp, hệ thống điều khiển tự động, cùng vận hành thông minh chỉ bằng một nút bấm cho toàn bộ quá trình phân tích và cấu hình, PlasmaMS 300 giảm thiểu tối đa ảnh hưởng của yếu tố con người, đảm bảo độ nhất quán và độ lặp lại xuất sắc của kết quả phân tích.

Năng lực phân tích ưu việt (Excellent Analysis Capabilities)

• Nguồn ICP bán dẫn với khả năng ghép nối tối ưu giúp hạn chế sự khuếch tán ion trong quá trình ion hóa, đảm bảo khả năng hội tụ và tỷ lệ truyền ion cao.
• Hệ quang học ion dạng lệch hướng giúp đạt hiệu quả hội tụ ion tối ưu, giảm nhiễu nền, từ đó nâng cao tỷ lệ tín hiệu trên nhiễu (S/N).

Công nghệ ghép nối mạnh mẽ (Powerful Coupling Technology)

• Thiết bị có thể ghép nối thuận tiện với hệ thống lấy mẫu laser ablation (LA) và sắc ký lỏng (LC).
• Khi kết hợp với LA, PlasmaMS 300 cho phép lấy mẫu rắn trực tiếp, đồng thời xác định nguyên tố chính, nguyên tố phụ và nguyên tố vết trong mẫu aerosol. Hệ thống ghép nối này loại bỏ quy trình chuẩn bị mẫu phức tạp, nâng cao hiệu suất lấy mẫu và phân tích, đồng thời mở rộng năng lực phát hiện của thiết bị.
• Khi kết hợp với LC, thiết bị có thể thực hiện phân tích dạng tồn tại (speciation analysis) của nguyên tố trong các hợp chất hữu cơ, tiếp tục mở rộng phạm vi và hiệu quả phân tích, cung cấp giải pháp ứng dụng toàn diện hơn cho PlasmaMS 300.

Quy trình vận hành thân thiện với người dùng (User-friendly Operation Process)

• Thiết lập thông số “One-click” trực quan và tiện lợi giúp nâng cao hiệu suất làm việc của người vận hành.
• Hệ thống hỗ trợ tùy chỉnh định dạng báo cáo theo yêu cầu khách hàng, đồng thời cung cấp chức năng QC và giao diện kết nối LIMS.

Bảo trì thuận tiện (Convenient Maintenance)

• Côn (cone) và hệ quang học ion lệch hướng có thể tháo lắp và vệ sinh dễ dàng, giúp giảm lắng đọng ion và kéo dài chu kỳ bảo trì.
• Nguồn ICP bán dẫn bền bỉ đảm bảo vận hành ổn định, không sự cố trong thời gian dài.